被“卡脖子”的离子注入机实现国产化,这种装备是干什么的?在硅片上要做一个三极管(或场效应管),要分好几层,每一层先要做掩膜(即涂光敏光刻胶,再用光刻机对需要的部分曝光),然后通过化学手段去除曝光部分,再利用离子注入机对该部分进行离子渗透参杂,使之成为半导体(P型或者N型),以此类推...